사단법인 한국표면분석학회

The Korea Society of Surface Analysis

반도체 표면분석 기술 워크샵

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안녕하십니까?

표면분석 기술은 철강, 소재, 자원 등 기간산업에서 반도체, 배터리, 신소재 등 첨단 산업으로 그 적용 범위가 확대되면서 급격한 발전을 이루어 왔습니다. 전자빔, 이온빔 및 광을 이용한 다양한 표면분석 장비가 연구 및 산업 현장에서 활발히 활용되며, 이를 효과적으로 운용하고 연구·산업에 적용하는 것이 점점 더 중요해지고 있습니다.

이에 한국표면분석학회는 표면분석 기초 개념을 배우고 최신 분석 기술을 익힐 수 있는 제3회 표면분석 기초교육 및 종합심포지움을 개최하고자 합니다. 본 교육 및 심포지움에서는 표면분석을 처음 접하는 연구자와 산업체 실무자들을 위한 기본 개념 강의뿐만 아니라, 반도체 및 배터리와 같은 첨단소재 분야의 최신 표면분석 기술과 응용 사례를 소개하는 심도 있는 발표가 함께 진행될 예정입니다.

특히, 이번 심포지움에서는 반도체 및 배터리 소재 분석을 위한 최신 표면분석 기술에 대한 특별 세션을 마련하여, 최신 반도체 소자 개발 현황과 분석 이슈, 최신 배터리 소재 개발 현황과 핵심 분석 이슈, SEM-FIB, TEM, SIMS, Atom Probe 등 첨단 분석기술을 활용한 반도체 및 배터리 소재 분석 사례를 공유할 예정입니다. 이를 통해 표면분석이 연구 및 산업에서 차지하는 역할을 더욱 깊이 이해하고, 연구자 및 실무자 간의 정보 교류와 협력의 장이 될 수 있기를 기대합니다.

표면분석과 관련된 산·학·연 연구개발 및 기업에 종사하는 연구자 여러분의 많은 관심과 참여를 부탁드리며, 이번 교육과 심포지움이 연구 및 업무 수행에 실질적인 도움이 되기를 바랍니다.

감사합니다.

한국표면분석학회 회장   안 재 평

다각형아이콘행사개요

√ 일 시 : 2025년 4월 4일(금), 09:30-17:40

√ 장 소 : KT인재개발원

√ 대 상 : 산업체-연구소 연구원, 대학(원)생

√ 주 최 : (사)한국표면분석학회

다각형아이콘프로그램

시 간 강연자 세부내용
9:30 ~ 10:30 김태곤 교수(한양대학교) 최신 반도체소자 개발 현황 및 핵심 분석 이슈
10:40 ~ 11:40 정후영 교수(UNIST) 첨단 TEM 분석기술을 이용한 반도체 구조분석
11:40 ~ 11:50 특별회원사 소개 아미텍코리아(주) 카메카 사업부
11:50 ~ 13:00 점심식사
13:00 ~ 14:00 신태주 교수(UNIST) 표면분석 기술의 반도체 산업 응용 (가속기 & XPS )
14:10 ~ 15:10 안병운 박사(파크시스템스) AFM의 원리 및 반도체 활용 기술
15:10 ~ 15:30 커피브레이크
15:30 ~ 16:30 박윤백 수석(SK하이닉스) 메모리 반도체에서의 Atom Probe Tomography의 역할과 응용 분석 기술
16:40 ~ 17:40 홍태은 박사(한국기초과학지원연구원) 반도체산업의 표면분석 SIMS기술 및 응용

다각형아이콘강연요약

강연자 세부내용
김태곤 교수(한양대학교) 최신 반도체소자 개발 현황 및 핵심 분석 이슈
- DRAM 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
- NAND 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
- 로직 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
정후영 교수(UNIST) 첨단 TEM 분석기술을 이용한 반도체 구조분석
- 고분해능 STEM & iDPC imaging 기술을 이용한 반도체 재료의 원자레벨 구조분석
- Electron tomography 기술을 이용한 메모리 소자 구조의 3차원 해석
- In-situelectrical probing 기술을 이용한 차세대 메모리 소자의 구동 메커니즘 규명
- 고에너지 분해능 (monochromated) STEM-EELS 기술을 활용한 반도체 박막의 bandgap변화 측정
신태주 교수(UNIST) 표면분석 기술의 반도체 산업 응용
- Soft X-선을 이용한 산화물 초박막 두께측정 기술
- XPS을 이용한 반도체 합금박막 조성분석 기술
- 고배율 현미경의 배율 및 오프셋 교정 기술
안병운 박사(파크시스템스) AFM의 원리 및 반도체 활용 기술
- 구조 및 기본 원리
- AFM의 주요 기능 및 활용 사례
- 반도체 소자의 특성 측정 및 시편 준비
박윤백 수석(SK하이닉스) 메모리 반도체에서의 Atom Probe Tomography의 역할과 응용 분석 기술
- International Technology Roadmap for Semiconductor (ITRS)소개
- 3D Fin-FET (FieldEffectTransistor)내 불순물 분포 분석 기술 (@APT)
- 이종 연계 분석으로Floating Gate내 불순물 정량 분석 기술 (@SIMS/APT)
- 이종 상보 분석으로Metal Contact Resistance차이 규명 분석 기술 (@TEM/APT)
홍태은 박사(한국기초과학지원연구원) 반도체산업의 표면분석 SIMS기술 및 응용
- 반도체소자연구를 위한 SIMS 요소기술 및 분석의 한계점
- 반도체 SIMS분석의 기술트렌드 변화 및 발전 방향
- 반도체산업 발전에 따른 표면분석 전망

다각형아이콘워크숍 안내

본 워크숍은 오프라인 동시에 진행됩니다.

수료증 및 영수증(거래명세서)은 워크숍 종료 후 E-mail로 개별 발송됩니다.

다각형아이콘워크숍 등록 안내

√ 홈페이지 : https://surfaceanalysis.kr/

√ 등록기한 : 2025년 3월 28일(금), 23시 59분까지

다각형아이콘등록비

구분 정회원 비회원 정회원 가입 및 등록
일 반 200,000원 250,000원 250,000원
학 생 100,000원 130,000원 130,000원

√ 결제 방법 : 신용카드 결제 또는 가상계좌 결제

√ 전자계산서 발행: 온라인 등록 후 요청 사항 및 사업자등록증을 문의처 메일로 송부

온라인 결제가 어려우신 분은 웹회원으로 가입하신 후 현장 결제 부탁드립니다.

√ 문의처 : (사)한국표면분석학회학회 사무국 042-864-2007 / kossa@surfaceanalysis.kr