사단법인 한국표면분석학회

The Korea Society of Surface Analysis

반도체 표면분석

반도체 표면분석 워크숍 행사가 마무리 되었습니다.

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안녕하십니까?
4차 산업혁명에 의한 초지능, 초연결 사회가 진행됨에 따라 반도체 수요가 급격하게 증가하고
있으며 그 기반이 되는 반도체 및 디스플레이 등 첨단 산업의 발전이 국가 경제 발전의 핵심 축으로 자리매김하고 있습니다.


이에 한국표면분석학회는 첨단 표면분석 기법을 이용한 최신 반도체 공정 및 소자 분석 기술에 대해서
소개하고, 최신 현황에 대해서 정보를 공유하기 위해 제1회 반도체 첨단 표면분석 기술 워크숍을
준비하였습니다.

이번 워크숍에서는 최신 반도체소자개발 현황 및 핵심 분석 이슈, 표면분석의 기초 및 반도체 산업 응용,
첨단 TEM 분석기술을 이용한 반도체 구조분석, SEM-FIB를 이용한 반도체불량 분석, Atom-probe를 이용한
반도체 물성 및 구조분석, SIMS를 이용한 반도체 물성 분석 등 현재 반도체 산업의 측정/분석 핵심 이슈들이
논의되며 반도체 산업 현장의 전문가 등 산학연 전문가의 역동적인 강연이 진행됩니다.

반도체 관련 산학연 연구개발 및 기업에 종사하는 여러분의 많은 참석을 부탁드리며, 이번 워크숍이 해당
업무에 도움이 되시기를 기원합니다.
한국표면분석학회 회장   김 경 중

다각형아이콘행사개요

√ 일 시 : 2023년 5월 17일(수)

√ 장 소 : 한국반도체산업협회 회관 9층 교육장

√ 대 상 : 산업체-연구소 연구원, 대학(원)생

√ 주 최 : (사)한국표면분석학회

다각형아이콘프로그램

시 간 강연자 세부내용
9:30 ~ 10:30 김형섭 교수(성균관대학교) 신 반도체소자 개발 현황  및 핵심 분석 이슈
10:40 ~ 11:40 김경중 박사(한국표준과학연구원) 표면분석 기술의 반도체 산업 응용
11:40 ~ 13:00 점심식사
13:00 ~ 14:00 박경수 교수(서울대학교) 첨단 TEM 분석기술을 이용한 반도체 구조분석
14:10 ~ 15:10 안재평 박사(한국과학기술연구원) FIB의 원리 및 반도체 활용 기술
15:10 ~ 15:30 커피브레이크
15:30 ~ 16:30 박윤백 수석(SK하이닉스) 메모리 반도체에서의 Atom Probe Tomography의 역할과 응용 분석 기술
16:40 ~ 17:40 박승주 PL(삼성전자) 반도체산업의 표면분석 SIMS기술 및 응용

다각형아이콘강연요약

강연자 세부내용
김형섭 교수(성균관대학교) 최신 반도체소자 개발 현황  및 핵심 분석 이슈
- DRAM 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
- NAND 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
- 로직 소자의 기술적 발전 방향 및 분석 이슈
김경중 박사(한국표준과학연구원) 표면분석 기술의 반도체 산업 응용
- 상호보정법을 이용한 산화물 초박막 두께측정 기술
- 다점교정법을 이용한 합금박막 조성분석 기술
- 고배율 현미경의 배율 및 오프셋 교정 기술
박경수 교수(서울대학교) 첨단 TEM 분석기술을 이용한 반도체 구조분석
- 고분해능 STEM & iDPC imaging 기술을 이용한 반도체 재료의 원자레벨 구조분석
- Electron tomography 기술을 이용한 메모리 소자 구조의 3차원 해석
- In-situelectrical probing 기술을 이용한 차세대 메모리 소자의 구동 메커니즘 규명
- 고에너지 분해능 (monochromated) STEM-EELS 기술을 활용한 반도체 박막의 bandgap변화 측정
안재평 박사(한국과학기술연구원) FIB의 원리 및 반도체 활용 기술
- 구조 및 기본 원리 (전자와 이온의 유사성 및 차이점)
- FIB의 7가지 주요 기능 및 활용 사례
- 전자현미경 내 저전류 측정 및 시편 준비
박윤백 수석(SK하이닉스) 메모리 반도체에서의 Atom Probe Tomography의 역할과 응용 분석 기술
- International Technology Roadmap for Semiconductor (ITRS)소개
- 3D Fin-FET (FieldEffectTransistor)내 불순물 분포 분석 기술 (@APT)
- 이종 연계 분석으로Floating Gate내 불순물 정량 분석 기술 (@SIMS/APT)
- 이종 상보 분석으로Metal Contact Resistance차이 규명 분석 기술 (@TEM/APT)
박승주 PL(삼성전자) 반도체산업의 표면분석 SIMS기술 및 응용
- 반도체소자연구를 위한 SIMS 요소기술 및 분석의 한계점
- 반도체 SIMS분석의 기술트렌드 변화 및 발전 방향
- 반도체산업 발전에 따른 표면분석 전망

다각형아이콘HYBRID 워크숍 안내

본 워크숍은 온ㆍ오프라인 동시에 진행됩니다.

홈페이지에서 로그인 후 등록 완료 시 워크숍 동영상 시청이 가능합니다.

수료증 및 영수증(거래명세서)은 워크숍 종료 후 E-mail로 개별 발송됩니다.

다각형아이콘HYBRID 워크숍 등록 안내

√ 홈페이지 : https://surfaceanalysis.kr/

√ 등록기한 : 2023년 5월 15일(월) 23:59 까지

다각형아이콘등록비

구분 정회원 비회원 정회원 가입 및 등록
일 반 200,000원 250,000원 250,000원
학 생 100,000원 130,000원 130,000원

√ 결제 방법 : 신용카드 결제 또는 가상계좌 결제

온라인 결제가 어려우신 분은 웹회원으로 가입하신 후 현장 결제 부탁드립니다.

√ 문의처 : (사)한국표면분석학회학회 사무국 042-864-2007 / kossa@surfaceanalysis.kr

√ 행사접수가 마감되었습니다.